イオンプレーティング

PVD法による表面処理の一つ。真空中で蒸発物質をイオン化し、高電圧をかけて負極にした材料に衝撃的に蒸着すること。イオン化する方法は、少量のアルゴンガス雰囲気で高電圧直流プラズマ放電・高周波プラズマ放電・電子ビーム金属プラズマなどがある。電圧は、500V~2kVが使用される。特徴は蒸着材料の選択自由度が大、高純度な膜の生成、密着性が良好、低温処理で可能などである。雰囲気に反応性ガスを導入し、蒸発粒子の化合物(窒化物など)の膜を生成できる。チタンへのイオンプレーティングは、真空中で行うので表面汚染がなく密着性が高いので適しており、耐摩耗性や意匠性の面で使用されている。

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