スパッタリング

PVD法による表面処理の一つ。アルゴンガスを少量含む真空中において、材料を陽極に、被覆したい物質を陰極にして電圧をかけると、励起されたアルゴンガスイオンにより陰極の物質の原子が飛び出し、陽極の材料表面に堆積し膜を生成すること。被覆する陰極の物質をターゲットという。ターゲットの形に加工できれば、高融点の材料でも材料表面に成膜できる。スパッタリング中に反応ガスを入れれば、酸化物など高融点の物質を成膜できる。 純チタンをターゲットとして、窒素ガスを導入しスパッタリングを行うと窒化チタン(TiN)の皮膜が得られる。工具刃コーティングに利用されている。

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